出現了!迄今爲止整體器件性能最好的MoS2單晶

近期,南京大學和東南大學研究者共同實現了在C面藍寶石襯底上外延生長2英寸(~50 mm)的單層二硫化鉬(MoS2)單晶,其是迄今爲止所報道的單層MoS2晶體管中最佳的整體器件。

迄今爲止整體器件性能最好的MoS2單晶圖片

二維過渡金屬二硫化物(TMDCs)半導體材料,在將摩爾定律推廣到矽以外方面引起了人們極大的興趣。然而,儘管人們已經進行了大量研究,但是在可擴展和工業兼容的襯底上獲得晶圓級TMDCs單晶仍然充滿極大的挑戰。

經過近幾年科學家不斷地努力探索,最終製備出了以C面藍寶石爲襯底的二硫化鉬單晶。研究者設計了與標準襯底垂直的藍寶石A軸(C/A)的錯切取向,儘管錯切取向的改變不影響外延關係,但所得臺階邊緣打破了反平行MoS2疇的成核能簡幷性,幷導致超過99%的單向排列,從而解决了市場上C面藍寶石襯底外延生長TMDCs單晶存在的問題。

研究表明,襯底上的MoS2呈現100%單向排列,且重複性超過99%,幷具有極好的晶圓級均勻性。另外,所製備的MoS2單晶可以批量製造幾厘米長的場效應晶體管(FET)陣列,幷獲得了102.6cm2/(v·s)的遷移率和450μA/μm的飽和電流,這是目前單層MoS2的最高值。對160個厘米級場效應管的統計分析表明,器件成品率超過94%,遷移率變化15%。

迄今爲止整體器件性能最好的MoS2單晶圖片

與使用六角形BN或Au作爲外延襯底的的潜在競爭技術相比,該方法使用了廣泛應用的低成本C面藍寶石,這種藍寶石可以很容易地擴展到8英寸,幷且與工業工藝具有良好的兼容性。該方法爲未來電子學提供了一條通用和可擴展製備TMDCs單晶的途徑。

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