WO3薄膜可以通過射頻磁控濺射法製備得到，作為電致變色膜，用於組裝全固態靈巧窗，被認為是最具有應用前景的新型節能材料之一。有專家通過該法製備得到三氧化鎢薄膜，並對沉積氧化鎢薄膜的各項性能進行測試。
更多內容請訪問：
http://www.tungsten-powder.com/traditional/tungsten_oxide.html
那麼，射頻磁控濺射法製備WO3薄膜的工藝條件有哪些？鍍膜室極限真空為1×10-3Pa，濺射靶材為燒結WO3陶瓷靶，靶面積為78cm2。濺射氣體氬氣及工作氣體氧氣的純度均為99.999%，濺射氣體總壓強為1.1-2Pa，氧氣分壓強0.1-0.2Pa，靶功率密度為1.4-1.9W/cm2，沉積速率為6-8nm/min，沉積時間為15-20min。所沉積電致變色膜有效面積為5cm×5cm。沉積氧化鎢薄膜的性能測試結果如下：漂白態可見光透射率：>82%；著色態可見光透射率：<20%；回應時間：<10s；開路存儲時間：>24h（ΔT>20%）；工作迴圈週期：>105次；工作電壓：<±1.9V。
