多孔結構WO3薄膜可以通過一種新型製備方法構築得到。有專家將WO3超細納米線沉積在ITO表面，發現採用不同溶劑製備的薄膜具有不同的光學性質。這種電沉積結晶態WO3的方法，往往直接將納米粉末分散於溶劑（甲醇、去離子水或正己烷）中進行沉積，因此，沉積電壓較大，且所沉積薄膜往往需要退火處理。
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對此，有專家利用超薄的水合WO3納米片在酸性條件帶正電的特性，採用低壓電沉積方法製備出了免退火的三維類垂直結構水合WO3納米片薄膜，這種新型製備方法為構築多孔結構薄膜提供了新思路，並可能應用於可拉伸器件中以防止薄膜在拉伸過程中開裂，具有潛在的商業化前景。
